在真空離子鍍膜工藝中，由于在工件表面會(huì )不斷累積帶電粒子，會(huì )慢慢形成一個(gè)具有高電勢的勢壘層，一旦勢壘層被擊穿，就會(huì )造成工件短路，也就是我們俗稱(chēng)的"打弧"，打弧瞬時(shí)產(chǎn)生的能量巨大。鍍膜工藝過(guò)程中打弧是不可避免的，而一旦打弧就會(huì )對工件造成損傷，給用戶(hù)造成大量損失。

在打弧的瞬間工件被短路，大量電流通過(guò)工件(此時(shí)工件近乎無(wú)傷)，而由于電路中電感的存在阻礙了電流的快速增長(cháng)，導致此時(shí)電路上會(huì )有大量電流反向運行(見(jiàn)圖示)，這些因為被電感阻擋的瞬時(shí)反向大電流才是真正對工件造成損傷的罪魁禍首。

通過(guò)對真空離子鍍膜工藝中的打弧機制多年詳盡的研究與實(shí)驗，精新電源最終研發(fā)出了一套獨家的全周期(檢測，抑弧，滅弧)電弧管理體系：

• 打弧提前預警檢測: 精新電源獨創(chuàng )的微分法弧檢測，一旦檢測的電流增長(cháng)率突增，則會(huì )第一時(shí)間采取保護措施。本方法會(huì )在電弧真正產(chǎn)生前就將其抑制。
• 減少勢壘層形成概率，本質(zhì)性抑弧: 勢壘層形成是打弧的充分條件。精新電源通過(guò)靈活多樣的脈沖疊加，可極大減少勢壘層的形成概率。
• 電源可四象限運行，疏導釋放弧能量: 因為打弧瞬間大量電流（與電壓）反向，只有電源具備四象限(電壓電流方向象限)工作能力才能將打弧產(chǎn)生的能量有效疏導和釋放。精新電源是同類(lèi)產(chǎn)品中為數不多可在四象限運行的電源產(chǎn)品，可將拉弧、跑弧的能量控制在0.2mJ/KW以下，同類(lèi)產(chǎn)品中領(lǐng)先。