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        1. HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源
          High Power Impulse Magnetron Sputtering
          HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源被廣泛應用于各類(lèi)PVD和PECVD工藝,用來(lái)制備高端金屬裝飾膜,功能膜和類(lèi)金剛石(DLC)膜層等。相較于中頻磁控濺射電源,HiPIMS有著(zhù)離化率高,繞鍍性好,膜層致密性好,成膜色澤優(yōu)異等特點(diǎn)。HiPIMS最典型的應用包括對膜層致密性要求高的各類(lèi)功能膜和硬質(zhì)膜,iPhone的玫瑰金手機殼,高端手表表殼等。行業(yè)領(lǐng)先的精新HiPIMS電源作為可對標德國霍廷格(TRUMPF Hüttinger)同類(lèi)型電源的產(chǎn)品,已為國內十多家真空鍍膜客戶(hù)提供了優(yōu)質(zhì)服務(wù),廣受好評。
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